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首页小学弟,科研回来我宣你!第61章 一个大胆的设想,开启第二次试验

第61章 一个大胆的设想,开启第二次试验

    主控制室中,陆隐将门反锁,一个人在主控电脑中一阵摸索,最终制定了一个大型模型。

    以及在光刻机原有数据上进行了添加和减少,形成一套全新的数据。

    这是他刚才突然来的灵感,也是他一开始就忽略掉的小细节,更是一次大胆的设想。

    要是这个设想能成功,或许将改写华国甚至全世界光刻机技术历史!

    AI智能给出的图纸并不是每时每刻都细致入微,有很多细节都需要他自己去摸索,这也是为什么每次小A给出的成功率都不是百分百的主要原因。

    但是他心里有直觉,这个想法,或许能行!

    接下来的几天,陆隐再次将自己关进的实验室,每天都在计算数据和模拟大型模型,以及对原有光刻机进行改造。

    实验大厅里,一群人眼睁睁看着已经成型并雏向完成的光刻机被一台台大型机器进行拆分再组装,心疼得都快哭了。

    “曾老,要不你还是去劝劝陆工吧?这可是一台完成的2nm光刻机啊,可能也是咱们华国唯一一台,就这样拆了,会不会太草率了点?”

    “也不知道陆工心里怎么想的,他是不是走火入魔了?”

    李广军看到又一台大型机器开了进来,不仅对光刻机进行了拆分,就连光刻机试验室的地板和环境都进行了改装,他心里就跟滴血一样疼。

    曾泉叹了口气,“劝不了啊,不过我觉得陆工心里应该有数吧,也不至于会毁了光刻机,实在不行,再装一台?”

    说话间,一台大型吊机再次进来,直接打掉实验室的屋顶,把残余的光刻机零件给勾了起来。

    紧接着,一排排特制水管被搬了进来,安装在了光刻机试验室的四周。

    曾泉眼皮子一抖,“要不,我还是去问一下吧……”

    话还没说完,他人已经到了主控室门前。

    李广军等人见状也赶紧跟了进去。

    控制室内,陆隐正在对电脑上的模型进行演练,听到动静一回头就看到一群人站在他身后,一脸欲言又止的纠结模样。

    陆隐有些疑惑,“曾老?你们这是……?是模型数据出了什么问题?”

    这几天,陆隐将一份全新的数据交给了曾泉等人帮忙计算,按照他们的速度,今天应该是最后一次确认。

    曾泉摇了摇头,“不是,陆工,我们只是有些不明白。”

    “是最近的光刻机试验室改造的事情?”陆隐指着外面的大型机器,心中了然。

    陆隐本以为改造的第一天曾泉等人就会忍不住来问,没想到竟然都快改造完成了才来,还挺有耐心。

    “是的,我们想问一下陆工你心里是怎么想的?”

    曾泉换了一个委婉的说法,“你是不是想到了什么改进的方法?”

    他倒不认为陆隐会毁了已经成型的光刻机,结合前几天陆隐的怪异举动,他觉得应该是陆隐想到了什么。

    只是最近的动静太大了,不问一下他心里有点不踏实。

    陆隐笑了。

    “曾老,各位,我知道你们之前一直都疑惑为什么明明已经研发出了2nm光刻机,我还是不满意。”

    “因为从一开始,我就没打算研发2nm,我的目标一直都是研发1nm光刻机。”

    曾泉本想说2nm光刻机也挺好的,只要发布出去就会解了华国现如今的燃眉之急,但话还没出口,就被陆隐打断。

    “对于科研,我从来不是个可以将就的人,1nm光刻机确实是个挑战人类极限的事情,全世界也没有哪个国家能攻克,但别人做不到的,我们可以。”

    陆工微微侧身,露出身后主控电脑中的大型光刻机模样,“经过这几天的观察,我已经找到了解决的方法,如今就剩下实践了。”

    “陆工,这是……”曾泉盯着看了一下,有些看不明白,但心中又好像有什么东西一闪而过,只是闪得太快,他有些抓不住。

    就连曾泉都一知半解,其他几人更是一头雾水。

    知道复杂的他们听不懂,陆隐简单做了说明。

    这段时间他参考了很多国内外光刻机失败案例,最终得出答案,问题就出在这193nm的深紫外光上。

    193nm深紫外光一直是郁金香国和西洋国等科技大国用来研发光刻机的光源,但他此时研发的是1nm光刻机,是目前世界上没有任何国家能研发出来的人类极限,故而,这光源自然也不合适了。

    想要突破这道极限,就必须要将光源缩短,但193nm深紫外光源已经是目前已知的最先进也是最常用光源,想要找到替代的光源,难上加难。

    直到那天他无意中将水洒在手机屏幕上,水滴形成了简易的凹凸面,放大了屏幕上的字体。

    换一句话来说,通过在硅晶圆前面添加一层水作为介质,就可以将193nm的光源折射后等效为134nm的波长,从而提高分辨率,就可以成为浸润式光刻机。

    理论上,浸润式光刻机可以支持到65纳米制程,一般来说,浸润式光刻机只可以支持到7纳米制程,但事实上,浸润式光刻机的实际极限远不止7纳米,只要加大成本,浸润式光刻机可以推进到3纳米甚至2纳米制程。

    但这涉及到多重曝光和对准的问题。

    打个比方来说,对于一个芯片来而言,原本的电路图案可能有10层,我们可以将其拆分为30层、40层甚至更多层次,通过多次光刻工艺,最终可以实现更高的分辨率。

    但这对光刻过程十分严格,每一次光刻过程都要保证准确对准,这是一个极难攻克的点,可以形象地比喻为在一张小纸上拓印一个王字,若直接一次性拓印肯定不行,因为纸太小了。

    所以我们要将其分为多次拓印,先拓印一横,慢慢挪动纸,再拓印一横,然后拓印一竖,最终形成一个“干”字,再拓印一横,最终得到“王”字。

    “竟然这么简单?!”

    曾泉听后,眼睛噌的一下就亮了,眼中精光流转,满脸兴奋和好奇,仿佛触碰到了从未见过的知识点。

    事实上,这一观点他也只在陆隐口中听过。

    他抬头看着越来越看不清原本面貌的光刻机,心中还有些担忧。

    “陆工,你有多大的把握,若是这个设想不成功,这台光刻机可就报废了。”曾泉问道。

    陆隐双眼中闪过一丝坚定,“九成吧,行不行两天后就知道了。”

    “这次的改装已经进行到了最后的阶段,两天后,将开启第二次试验。”
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